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工业硅-Cr测试-金属及高分子材料检测报告

更新时间:2023-10-04 00:00:00
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品牌:百检
资质:CMA/CNAS
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公正:保证检测工作不受来自各方面压力的影响,独立进行检测,出具公正的检测结果。

科学:遵守国家有关法律、法规,依据检测标准、规范。

准确:认真执行本公司作业程序,严格控制检测全过程。

高效:在能力岗位和检测程序有效保障的情况下,及时给客户出具数据,保障客户的利益。

改进:通过学习培训不断提高技术能力和管理水平,超越自我,赶超行业先进水平。


1 工业硅化学分析方法 第6部分:碳含量的测定 红外吸收法 GB/T 14849.6-2014 碳


2 工业硅化学分析方法 第5部分:杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法 GB/T 14849.5-2014 铁,铜,铝,磷,钙,镁,锰,铬,镍,钒,钛,钴


3 工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 GB/T 14849.4-2014 铁,铝,钙,锰,钛,镍,铜,铬,钒,镁,钴,磷,钾,钠,铅,锌,硼


4 工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定 GB/T 14849.3-2020 钙


5 工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定 GB/T 14849.1-2020 铁


6 工业硅化学分析方法 第2部分:铝含量的测定 铬天青-S分光光度法 GB/T 14849.2-2007 铝


7 进出口金属硅中总碳和硫含量测定 高频燃烧红外吸收光谱法 SN/T 2413-2010 碳、硫


8 工业硅化学分析方法 第7部分:磷含量的测定 磷钼蓝分光光度法 GB/T 14849.7-2015 磷


9 工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定 GB/T 14849.3-2007 钙


10 金属硅中铁、铝、钙、镁、锰、锌、铜、钛、铬、镍、钒含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 SN/T 1650-2005 铁、钙、钛、镍、锰


11 工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 GB/T 14849.4-2014 铁、铝、钙、钛、磷、镍、锰、钴、铬、镁、钾、钠、铜、硼、钒


12 工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定 1,10-二氮杂菲分光光度法 GB/T 14849.1-2007 铁


13 工业硅粉定量相分析 二氧化硅含量的测定 X射线衍射K值法 YS/T 1160-2016 物相分析


14 工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定 GB/T 14849.3-2020 钙


15 工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 GB/T 14849.4-2014 铁、铝、钙、 钛、锰、镍



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